臺積電著手安裝3nm制程芯片制造設備 量產時間將比三星提前一年

據國外媒體報道，臺積電已經開始在Fab 18工廠安裝3nm制程芯片的制造設備，將在今年下半年試產3nm芯片。

據了解，與之前的臺積電5nm工藝相比，最新的3nm工藝能讓芯片面積縮小30%，功耗降低最多25~30%，或者最多提升10~15%。

臺積電與三星的代工工藝競爭已經持續多年，根據之前的報道三星3nm量產要到2023年，整整落后臺積電1年時間。

有分析稱臺積電提前量產3nm的計劃，只為比三星更早投入生產，以便提前搶占市場。

根據《日經亞洲》之前的報道，臺積電3nm工藝已經迎來了第一個客戶，那就是Intel，而且Intel與臺積電的合作至少包含兩個項目，芯片訂單產量遠超蘋果，將成為臺積電在3nm時代最大的客戶。

目前臺積電占據了全球7nm、5nm生產工藝的大部分產能，其營收占企業總營收的49%，在3nm投入量產之后，其營收占比預計會繼續提升。

三星雖然也有生產3nm工藝芯片的能力，但在功耗等方面，依然和臺積電有不小的差距。

關鍵詞： 臺積電 3nm